苹果屏下Face ID专利曝光，或将iPhone 18上达成真全面屏
发布日期：2025-02-23 06:44 点击次数：185
对于苹果公司而言，达成iPhone真全面屏形态的最大时期难点无疑是屏下Face ID。由于Face ID系统依赖于深感录像头投射并分析多数的点来拿获准确的东谈主脸数据，其中的红外录像头、点阵投影器等要道组件在面前时期要求下难以十足荫藏到屏幕下方。因此，苹果当今只可罗致妥洽的药丸屏决议来经管这一问题。经营词，近日有媒体报谈称，苹果依然取得了一项对于屏下Face ID的专利，该专利有望经管屏下录像头的时期难得，为iPhone达成真全面屏形态铺平谈路。
据了解，屏下Face ID濒临的紧要问题是普及红外光的透光率。固然红外光概况穿过泄漏屏，但其透射率较差，若是强即将其置于面板下方，东谈主脸识别流程将会变得迟缓，且安全可靠性也会镌汰。经营词，苹果的最新专利泄漏，他们通过删除一些子像素的形貌，成效让红外光概况穿过盖板，达成屏下东谈主脸识别。
具体来说，苹果的决议是移除交流神采的相邻子像素，以此来让红外光概况成效穿过OLED面板。由于每个像素王人由红色子像素、绿色子像素和蓝色子像素构成，而屏幕上的颜色恰是由这三种不同神采的子像素近似、搀和呈现出来的。因此，苹果通过移除部分子像素来让红外光通过，同期借用相邻的子像素通过神采搀和来弥补缺失的子像素，从而保证合座泄漏截至的一致性。
值得可贵的是，这一决议并不会被用户肉眼察觉，因为缺失的子像素会被相邻的子像素所弥补，从而保抓屏幕泄漏截至的完好性。据媒体报谈，这一屏下Face ID时期最快将在2026年的iPhone 18系列上得到期骗。届时，iPhone 18系列将告别现存的药丸屏形态，以单挖孔屏的形态呈现，达成真的的全面屏盘算推算。
